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產(chǎn)品描述
高純鉻靶_高純鉻靶批發(fā)_高純鉻靶廠(chǎng)家
靶材比重計-陶瓷金屬合金靶材致密度儀-KW-3000F
為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,通常要求靶材具有較高的密度。靶材的密度不僅影響濺射速率,還影響著(zhù)薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和強度使靶材能更好地承受濺射過(guò)程中的熱應力。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標之一。
靶材在生產(chǎn)制造的過(guò)程中需要對其密度進(jìn)行,采用的方法是阿基米德原理,儀器自動(dòng)計算出靶材密度g/cm3。目前生產(chǎn)的采用人工對靶材進(jìn)行升降,由于靶材重量大,操作不便,手動(dòng)放置靶材到水中容易造成波動(dòng),不利于手動(dòng)計算密度。因此需要一種專(zhuān)用密度儀進(jìn)行操作。因此解決這一問(wèn)題就顯得十分必要。
技術(shù)參數:
型號:KW-3000F
稱(chēng)重精度:0.01g
稱(chēng)重量程:3000g(取樣重量3000g以?xún)?,如需更大量程,可以定制?/p>
密度精度:0.001g/cm3
靶材密度儀-KW-3000F
靶材比重計主要應用于金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材
.金屬靶材
鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cu、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶、W等。
陶瓷靶材ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
合金靶材鐵鈷靶FeCo、鋁硅靶AlSi、鈦硅靶TiSi、鉻硅靶CrSi、鋅鋁靶ZnAl、鈦鋅靶材TiZn、鈦鋁靶TiAl、鈦鋯靶TiZr、鈦硅靶TiSi、鈦鎳靶TiNi、鎳鉻靶NiCr、鎳鋁靶NiAl、鎳釩靶NiV、鎳鐵靶NiFe等。
比重(specific gravity)是相對密度(relative density)的舊稱(chēng)。相對密度定義為:某物質(zhì)的密度與參考物質(zhì)的密度之比。金屬靶材通常是合金靶材才會(huì )用到相對密度,相對密度高代表含量高。
用100滑模擬鋼彈和鎢合金彈撞擊鋼、鋁、銅、鈦、鉛、鎢6種金屬靶,實(shí)驗結果表明長(cháng)桿穿甲彈的侵徹深度與金屬靶材料密度的0.36次冪成反比。建立了一個(gè)適合于長(cháng)桿彈侵徹均質(zhì)金屬靶使用的關(guān)系式p/Dp=1.79(ρP/ρt)0.69(ρtV2/Yt)1/3 其中V是子彈的撞靶速度,ρp和ρt是彈材和靶材的密度,Yt是靶材的動(dòng)態(tài)屈服強度,P為侵徹深度,Dp為彈徑。
密度越高,精密度越好,鍍膜過(guò)程中裂靶的概率會(huì )低點(diǎn),建議靶材的密度和純度都要實(shí)時(shí)管控,一臺好用的檢測儀器很重要。
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